使用等離子清洗機【等離子Plasma】有哪些優(yōu)勢？
1.等離子清洗機可以不使用有害的溶劑，所以清洗以后不會產(chǎn)生有害物質(zhì)，這樣就有效的解決了環(huán)保的問題，等離子設(shè)備它可以被列為綠色清洗的行列了。
2.在通過等離子設(shè)備清洗過后的產(chǎn)品由于它本身就已經(jīng)很干燥了，就不需要經(jīng)過干燥處理就可以進行下一道工序。
3.等離子清洗機是用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體，它和我們通常所接觸到的激光等直射光線是不一樣的，由于它的方向性不夠強，所以可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的地方完成清洗任務(wù)，所以不用擔心被清洗處理的物件形狀和角度的問題，當然使用真空等離子設(shè)備更容易達到更好的效果。
4.等離子清洗機的清洗流程幾分鐘之內(nèi)就可以完成，它具有高效率，高速度的清洗特點。
5.等離子設(shè)備它可以不分處理的對象，針對不同的基材，不同的形狀，不管是半導體，還是氧化物，以及高分子材料等都可以進行等離子表面處理。它還可以有選擇性的材料進行整體，或者復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，也可以實現(xiàn)局部結(jié)構(gòu)等清洗處理。

等離子設(shè)備和濕洗設(shè)備的清洗對比：
【等離子Plasma】首先我們來了解一下等離子設(shè)備的清洗優(yōu)勢，等離子表面處理機設(shè)備的清洗優(yōu)勢是對象通過清洗后的物品是干燥的，那么它就不用再去進行干燥處理了，就可以進行下一道工序。
還可以將我們的等離子設(shè)備工藝設(shè)計為在線處理的清洗方式，既節(jié)約了成本，又省時省力，提高了生產(chǎn)的效率。
等離子設(shè)備清洗的第二個好處就是它是沒有污染的，沒有有害的物質(zhì)的，也避免了很多像濕法清洗比較容易產(chǎn)生的問題。
等離子表面處理機清洗可以使清洗的效率有所提高，達到表面改性，提升產(chǎn)品性能和良率的作用，通常來說，一般的工件都是幾分鐘就可以清洗完成的，沒有任何的繁瑣的工藝，只要會操作等離子設(shè)備就可以了。
等離子體清洗【等離子Plasma】在應(yīng)用中需要汪意一些制約因素，主要表現(xiàn)在以下幾點： 　　
不能用這種方法除去物體表面的切削粉末，這點在清洗金屬表面油垢時表現(xiàn)尤為明顯?！　?br/>實踐證明不能用它清楚很厚的油污，雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效果，但是對厚油垢的清除效果往往不佳，一方面用它清除油膜，必須延長處理間，使清洗的成本大大提高，另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過程中，引發(fā)油垢分子結(jié)構(gòu)中的不飽和鍵發(fā)生了聚合，偶聯(lián)等復(fù)雜反應(yīng)而形成較堅硬的樹脂化立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)有關(guān)。一旦形成這類樹脂膜他將很難被清除。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個微米以下的油污。
等離子體發(fā)生器【等離子Plasma】的放電原理：
利用外加電場或高頻感應(yīng)電場使氣體導電，稱為氣體放電。氣體放電是產(chǎn)生等離子體的重要手段之一。被外加電場加速的部分電離氣體中的電子與中性分子碰撞，把從電場得到的能量傳給氣體。電子與中性分子的彈性碰撞導致分子動能增加，表現(xiàn)為溫度升高；而非彈性碰撞則導致激發(fā)（分子或原子中的電子由低能級躍遷到高能級）、離解（分子分解為原子）或電離（分子或原子的外層電子由束縛態(tài)變?yōu)樽杂呻娮樱?。高溫氣體通過傳導、對流和輻射把能量傳給周圍環(huán)境，在定常條件下，給定容積中的輸入能量和損失能量相等。電子和重粒子（離子、分子和原子）間能量傳遞的速率與碰撞頻率(單位時間內(nèi)碰撞的次數(shù))成正比。

在稠密氣體中，碰撞頻繁，兩類粒子的平均動能(即溫度)很容易達到平衡，因此電子溫度和氣體溫度大致相等,這是氣壓在一個大氣壓以上時的通常情況,一般稱為熱等離子體或平衡等離子體。在低氣壓條件下，碰撞很少，電子從電場得到的能量不容易傳給重粒子，此時電子溫度高于氣體溫度，通常稱為冷等離子體或非平衡等離子體。
等離子體處理【等離子Plasma】的原理：等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四中狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。等離子處理技術(shù)是等離子體特殊性質(zhì)的具體應(yīng)用：等離子處理系統(tǒng)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。等離子體處理的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。