揚(yáng)州江都區(qū)國(guó)興技術(shù)等離子表面處理整體解決方案詳解說(shuō)明如下：

第一，首先我們來(lái)了解等離子體的基本概述。利用外加電場(chǎng)或高頻感應(yīng)電場(chǎng)使氣體導(dǎo)電，稱為氣體放電。氣體放電是產(chǎn)生等離子體的重要手段之一。被外加電場(chǎng)加速的部分電離氣體中的電子與中性分子碰撞，把從電場(chǎng)得到的能量傳給氣體。電子與中性分子的彈性碰撞導(dǎo)致分子動(dòng)能增加，表現(xiàn)為溫度升高；而非彈性碰撞則導(dǎo)致激發(fā)（分子或原子中的電子由低能級(jí)躍遷到高能級(jí)）、離解（分子分解為原子）或電離（分子或原子的外層電子由束縛態(tài)變?yōu)樽杂呻娮樱８邷貧怏w通過(guò)傳導(dǎo)、對(duì)流和輻射把能量傳給周圍環(huán)境，在定常條件下，給定容積中的輸入能量和損失能量相等。電子和重粒子（離子、分子和原子）間能量傳遞的速率與碰撞頻率(單位時(shí)間內(nèi)碰撞的次數(shù))成正比。

第二，等離子體處理的的原理是怎樣的呢？等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四中狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。

第三，等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

第四，等離子處理技術(shù)是等離子體特殊性質(zhì)的具體應(yīng)用：等離子處理系統(tǒng)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來(lái)愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。

第五，等離子清洗機(jī)有幾種稱謂，英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機(jī),等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機(jī)，等離子表面處理機(jī),電漿清洗機(jī)，plasma清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)，等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機(jī)/等離子處理機(jī)/等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場(chǎng)合。通過(guò)其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

第六，本方案等離子體表面處理裝置的組成：等離子體表面處理裝置由反應(yīng)腔體（又稱真空腔體）、真空系統(tǒng)、等離子體發(fā)生系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、進(jìn)氣流量控制系統(tǒng)等組成。考慮到生產(chǎn)操作的簡(jiǎn)便和效率，被處理材料的邊料節(jié)約以及該處理裝置的性價(jià)比，本裝置擬考慮采用水平式放置結(jié)構(gòu)。反應(yīng)腔由真空室、平板式電極組成，是等離子體（Plasma）處理反應(yīng)的有效空間，待處理物品水平置于反應(yīng)腔內(nèi)并可以設(shè)計(jì)成多層結(jié)構(gòu)便于大批量作業(yè)；真空系統(tǒng)由真空閥門(mén)、真空泵以及真空管路、真空系統(tǒng)控制執(zhí)行元件等組成，負(fù)責(zé)將反應(yīng)腔內(nèi)的空氣抽至預(yù)先的設(shè)定值并在工作時(shí)維持相應(yīng)的真空度；考慮到本裝置被處理材料要求清潔和活化作用，故本裝置的等離子體發(fā)生源擬采用波形經(jīng)過(guò)特殊處理的、具有高速震蕩功能的等離子體發(fā)生源，該系統(tǒng)源為反應(yīng)腔提供等離子體能量，以激發(fā)反應(yīng)腔內(nèi)的被反應(yīng)氣體急劇震蕩電離，形成所需要的具有清潔能力的等離子體（Plasma）；電控系統(tǒng)的作用是按照預(yù)設(shè)的工藝參數(shù)和步驟，智能最優(yōu)自動(dòng)控制該裝置的工藝流程的全過(guò)程，并能自整定維持工藝參數(shù)的穩(wěn)定性；工藝反應(yīng)氣體進(jìn)氣流量控制系統(tǒng)主要由質(zhì)量流量計(jì)和自控電磁閥門(mén)組成，其作用是精確控制反應(yīng)氣體的進(jìn)氣量，并維持工作期間所需要的真空度值。

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